俩侧额顶叶局部脑沟稍增深

两侧额顶叶局部脑沟稍增深是一种影像学表现，通常在头颅CT或MRI检查中发现。这种表现可能是正常的生理变异，也可能与某些疾病有关。以下是一些可能的原因：

-形态发育：脑沟的深度和形态在不同的个体之间可能会有所差异。在某些情况下，脑沟可能会稍增深。

-脑萎缩：脑萎缩是指大脑体积的缩小，通常与衰老、神经系统疾病或其他因素有关。脑萎缩可能导致脑沟增深。

-脑部病变：某些脑部病变，如脑梗死、脑出血、脑部感染或肿瘤等，也可能导致局部脑沟增深。

-其他因素：遗传因素、发育异常、头部外伤等也可能与两侧额顶叶局部脑沟稍增深有关。

总之，两侧额顶叶局部脑沟稍增深可能是正常的生理变异，也可能与某些疾病有关。如果对检查结果有疑虑，建议及时咨询医生，以便获得更详细和个性化的建议。