什么是双侧额叶皮下多发腔隙灶

双侧额叶皮下多发腔隙灶是一种常见的脑部影像学表现，通常在进行头颅CT或MRI检查时被发现。

腔隙灶是指脑部组织中的小缺血性病变，由于缺血导致局部脑组织坏死、液化并被吞噬细胞清除，从而形成小的空腔，即腔隙灶。这些腔隙灶通常很小，直径一般不超过15毫米。

双侧额叶皮下多发腔隙灶的形成可能与多种因素有关，如高血压、糖尿病、高血脂、动脉硬化等。这些因素导致脑部血管狭窄或闭塞，引起相应区域的脑组织缺血缺氧，进而发生坏死和液化。

双侧额叶皮下多发腔隙灶通常不会引起明显的临床症状，但在某些情况下，如腔隙灶较大或位于重要功能区时，可能会出现头痛、头晕、记忆力减退、注意力不集中等症状。

总之，双侧额叶皮下多发腔隙灶是一种常见的脑部影像学表现，通常不会引起明显的临床症状，但需要注意控制其病因，以预防其进一步发展。